삼성전자, 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인 건설

[한강타임즈 이영호 기자] 삼성전자는 3D V낸드 수요 증가에 대응하고자 중국 시안 반도체 사업장에 2기 라인을 건설한다고 28일 밝혔다.

이와 관련, 삼성전자는 이날 중국 산시성 시안시에서 ‘삼성 중국 반도체 메모리 제2 라인 기공식’을 가졌다.

앞서 지난해 8월 삼성전자는 시안 반도체 2기 라인 투자를 위해 산시성 정부와 MOU를 체결한 바 있으며, 향후 3년간 총 70억불을 투자하기로 했다.

삼성전자는 중국 시안에 반도체 2기 라인을 구축해 낸드플래시(V-NAND)를 필요로 하는 글로벌 IT 시장의 요구에 적극 대응하겠다는 계획이다.

김기남 삼성전자 사장은 기념사를 통해 “시안 2기 라인의 성공적인 운영으로 최고의 메모리 반도체 제품 생산과 함께 차별화된 솔루션을 고객에게 제공해 글로벌 IT 시장 성장에 지속 기여하겠다”고 말했다.

특히, 이번 2기 투자를 통해 낸드플래시 최대 수요처이자 글로벌 모바일, IT업체들의 생산기지가 집중돼 있는 중국시장에서 제조 경쟁력을 더욱 강화하고 중국 시장 요구에 보다 원활히 대응할 수 있을 것으로 기대하고 있다.

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